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Dictionnaire français - anglais

EUV

Inertial Measurement Unit

général - eur-lex.europa.eu
EUV

extreme ultraviolet

environnement - iate.europa.eu
L'invention concerne un filtre à pureté spectrale configuré pour émettre un rayonnement ultraviolet extrême (EUV) et dévier ou absorber le rayonnement secondaire non EUV.

A spectral purity filter is configured to transmit extreme ultraviolet (EUV) radiation and deflect or absorb non-EUV secondary radiation.

communication - wipo.int
Un collecteur optique (15) utilisé pour collecter un rayonnement ultra-violet extrême (ou une lumière EUV générée dans un site de production EUV) comprend une coque réfléchissante (25).

An optical collector (15) for collecting extreme ultraviolet radiation or EUV light generated at a central EUV production site comprises a reflective shell (25).

communication - wipo.int
Technologies honorées par Litho d'EUV EUV avec « la Récompense En Suspens de Cotisation » à l'Atelier International sur la Lithographie Ultra-violette (EUV) Extrême 2012 hébergée par EUV Litho.

EUV Litho honored EUV Technologies with the ‘Outstanding Contribution Award' at the International Workshop on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography 2012 hosted by EUV Litho.

général - CCMatrix (Wikipedia + CommonCrawl)
spécialement conçus pour la lithographie par rayonnement ultraviolet extrême' (EUV'); et

Specially designed for Extreme Ultraviolet' (EUV') lithography; and

général - eur-lex.europa.eu
Par G.P. Thomas Technologies honorées par Litho d'EUV EUV avec « la Récompense En Suspens de Cotisation » à l'Atelier International sur la Lithographie Ultra-violette (EUV) Extrême 2012 hébergée par EUV Litho.

EUV Litho honored EUV Technologies with the ‘Outstanding Contribution Award' at the International Workshop on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography 2012 hosted by EUV Litho.

général - CCMatrix (Wikipedia + CommonCrawl)
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Caractérisation et modélisation du flux solaire euv
... Dans ce cadre, cette thèse s'emploie à mieux connaître et modéliser le flux extrême ultraviolet (EUV) solaire, principal créateur de l'ionosphère diurne terrestre et plus généralement planétaire....
... In this context, this work aims to improve the knowledge and the modelling of the solar extreme ultraviolet flux which is the major cause for the existence of the planetary (and in particular terrestrial) ionosphere....
général - core.ac.uk - PDF: tel.archives-ouvertes.fr
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Spectral observations of the extreme ultraviolet astronomical background radiation
... Si ce gaz est présent en large volume dans le gaz local, des raies d'émissions devraient être produites dans l'extrême ultraviolet (EUV)....
... If large volumes of local interstellar space are filled with this hot plasma, emission lines will be produced in the extreme ultraviolet (EUV)....
général - core.ac.uk -
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Broadband extreme ultraviolet interferometry and imagingUsing a pair of phase-locked high-harmonic generation sources, we demonstrate Fourier transform interferometry at extreme-ultraviolet (EUV) wavelengths between 17 and 55 nm....
général - core.ac.uk - PDF: www.epj-conferences.org
Spectral catalogue of the intermediate ionization states of iron in the extreme ultravioletUsing precisely controlled laboratory conditions we have begun to establish a spectral catalogue of the intermediate ionization states of iron, Fe IX - Fe XXIV, in the extreme ultraviolet....
 PDF: digital.library.unt.edu
Large-solid-angle illuminators for extreme ultraviolet lithography with laser plasmasLaser Plasma Sources (LPSS) of extreme ultraviolet radiation are an attractive alternative to synchrotron radiation sources for extreme ultraviolet lithography (EUVL) due to their modularity, brightness, and...
 PDF: digital.library.unt.edu
Extreme ultraviolet emission from neutron stars... We consider the prospects for detecting other neutron stars in the extreme ultraviolet....
 PDF: citeseerx.ist.psu.edu
EUV

EUV

environnement - iate.europa.eu
L'invention porte sur un système de lithographie EUV comprenant : une source de lumière EUV pour générer un rayonnement EUV, ainsi qu'au moins un câble (33) s'étendant dans une chambre de guidage de faisceau du système de lithographie EUV.

The invention relates to an EUV lithography system, comprising: an EUV light source for generating EUV radiation as well as at least one cable (33) running in a beam guidance chamber of the EUV lithography system.

communication - wipo.int
Le miroir EUV (13) a au moins un atténuateur EUV disposé en face de celui-ci.

The EUV mirror (13) has at least one EUV attenuator arranged in front of it.

communication - wipo.int
Un système d'éclairage pour microlithographie EUV selon l'invention comprend une source lumineuse EUV (3) qui génère la lumière d'éclairage EUV (10) avec une étendue supérieure à 0,01 mm2.

An illumination system for EUV microlithography comprises an EUV light source (3) which generates EUV illumination light (10) with an etendue that is higher than 0.01 mm2.

communication - wipo.int
L'invention concerne également un appareil de lithographie EUV comprenant au moins un tel miroir EUV (13); et un procédé de mise en œuvre d'un tel appareil de lithographie EUV.

The invention also relates to an EUV lithography apparatus comprising at least one such EUV mirror (13) and to a method for operating such an EUV lithography apparatus.

sciences naturelles et appliquées - wipo.int
L'invention concerne un dispositif d'exposition par projection (1) pour la lithographie EUV (ultraviolet extrême), comportant une source de lumière à synchrotron EUV (2) pour produire de la lumière utile EUV (3).

The invention relates to a projection illumination system (1) for EUV microlithography, having an EUV synchronous light source (2) for generating useful EUV light (3).

communication - wipo.int
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Euv spectroscopy of highly ionized atoms
Les procédés expérimentaux pour l'analyse des spectres EUV des atomes hautement ionisés sont décrits, et tout particulièrement la différentiation des degrés d'ionisation par un changement des paramètres électriques de l'étincelle ...
...Experimental procedures for the analysis of EUV spectra of highly ionised atoms are described, especially the differentiation of degrees of ionisation by changing the electrical parameters of the vacuum spark....
général - core.ac.uk -
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Analyse des structures magnetiques solaires observees par soho. modelisation magnetohydrodynamique a trois dimensions
... En particulier dans le cas etudie, la reconstruction suivant l'hypothese d'un champ sans-force non lineaire a permis de preciser la structure d'un systeme de boucles observe en EUV par EIT/SOHO, et d'un sigmoide observe en rayons X par SXT/Y...
... Computing the non-linear force-free field, the calculated flux tubes are in good agreement with the system of loops observed in EUV by EIT/SOHO and with the sigmoid observed in soft X-rays by SXT/Yohkoh....
général - core.ac.uk - PDF: tel.archives-ouvertes.fr

Publications scientifiques

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Low lying odd parity autoionising states in the 2p-subshell absorption spectrum of a1 iii and si iv
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...The photoabsorption spectrum of an aluminum plasma and of a silicon plasma were photographed in the EUV region....
général - core.ac.uk -
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Characterization of ebl2 euv exposure facilityTNO has built EBL2; a facility for EUV exposure testing and surface analysis....
général - core.ac.uk - PDF: www.loc.gov
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Ebl2: high power euv exposure facilityTNO is building EBL2: a laboratory EUV exposure system capable of operating at high broad band EUV powers and intensities, in which XPS analysis of exposed samples is possible without breaking vacuum....
général - core.ac.uk - PDF: www.loc.gov
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Towards a carbon-contamination-tolerant euv power sensorA reproducible measurement of in-band EUV power over time is essential in EUV lithography, e.g....
général - core.ac.uk - PDF: www.loc.gov
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Realisation of a vacuum system of an euv exposure system... The experiments for which EBL2 is intended are: accelerated lifetime tests for EUV Mirrors; EUV Reticles and pellicles; and Materials used in EUV lithography....
général - core.ac.uk - PDF: www.loc.gov
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Towards a contamination-tolerant euv power sensorIn EUV Lithography short-, mid- and long-term control over in-band EUV power is needed for high-yield IC production....
général - core.ac.uk - PDF: www.loc.gov

Synonymes et termes associés français

EUV

•

ultra-violet extrême

•

UV extrême

•

ultraviolet extrême

Traductions en contexte français - anglais

La présente invention concerne un appareil de génération de lumière EUV (ultraviolet extrême) qui peut émettre une lumière EUV d'une intensité suffisante sans causer le problème caractéristique d'une source lumineuse EUV plasma (génération de débris).

Provided is an EUV light generating apparatus which can output EUV light having sufficient intensity without causing a problem of a plasma EUV light source (generation of debris).

électronique et électrotechnique - wipo.int
Ce rayonnement EUV est généré à partir d'un plasma qui émet à la fois un rayonnement EUV et des particules électriquement chargées.

The EUV radiation is generated from a plasma (12) , which emits both EUV radiation and electrically charged particles.

communication - wipo.int
L’invention porte spécifiquement sur une ébauche de masque réfléchissant pour lithographie EUV où une couche réfléchissante pour refléter la lumière EUV et une couche absorbante pour absorber la lumière EUV sont formées sur un substrat dans cet ordre.

Specifically disclosed is a reflective mask blank for EUV lithography wherein a reflective layer for reflecting EUV light and an absorbing layer for absorbing EUV light are formed on a substrate in this order.

électronique et électrotechnique - wipo.int
L'ébauche de masque réflecteur pour lithographie EUV est obtenue par formation, sur un substrat, d'au moins une couche réfléchissante pour réfléchir un rayonnement EUV et d'une couche d'absorbeur pour absorber un rayonnement EUV dans cet ordre.

The reflective mask blank for EUV lithography is obtained by forming, on a substrate, at least a reflective layer for reflecting EUV light and an absorber layer for absorbing EUV light in this order.

électronique et électrotechnique - wipo.int
Un appareil à exposition EUV est également fourni.

An EUV exposure apparatus is also provided.

électronique et électrotechnique - wipo.int
Des champs électriques de courant continu pulsés sont appliqués au trajet de la lumière EUV pour rejeter des ions provenant du trajet EUV.

Pulsed DC electric fields are applied to the path of EUV light to reject ions from the EUV path.

électronique et électrotechnique - wipo.int
L'invention concerne une ébauche de masque pour EUV, comprenant une couche à faible réflexion qui a d'excellentes caractéristiques d'ébauche de masque pour EUV.

Provided is an EUV mask blank comprising a low-reflection layer that has excellent EUV mask blank characteristics.

électronique et électrotechnique - wipo.int
L’appareil lithographique à EUV selon l’invention comporte une source de rayonnement EUV, un élément optique (50) et un dispositif de nettoyage (95).

An EUV lithographic apparatus includes an EUV radiation source, an optical element (50) and a cleaning device (95) .

communication - wipo.int
Le rayonnement EUV émis par un plasma à haute température (P) est collecté sur un point focal (f) par un condenseur EUV (6), puis émis depuis un orifice d'émission de rayonnement EUV (7) pour irradier un dispositif d'exposition (30).

EUV light radiated from high-temperature plasma (P) is collected onto a focal point (f) via an EUV condenser (6), then emitted from an EUV light emitting port (7) and irradiated onto an exposure device (30).

électronique et électrotechnique - wipo.int
L'invention concerne un système d'éclairage pour lithographie EUV permettant d'éclairer un champ d'éclairage prédéterminé (2) d'une surface d'objet avec une radiation EUV (4).

An illumination system for EUV lithography is used for illuminating a predetermined illumination field (2) of an object surface with EUV radiation (4).

communication - wipo.int
La pièce à masque réfléchissant pour une lithographie EUV comprend un substrat et, formées sur celui-ci dans l'ordre suivant, une couche réfléchissante qui réfléchit une lumière EUV et une couche d'absorption qui absorbe la lumière EUV.

The reflective mask blank for EUV lithography comprises a substrate and, formed thereover in the following order, a reflective layer which reflects an EUV light and an absorber layer which absorbs the EUV light.

électronique et électrotechnique - wipo.int
L'invention porte sur un système de lithographie EUV 1 qui comprend un chemin de faisceau EUV et un chemin de faisceau de surveillance (51).

An EUV lithography system 1 comprises an EUV beam path and a monitor beam path 51.

communication - wipo.int
Le système peut être associé à un miroir pour capter les rayons EUV par réflexion des rayons EUV venant en contact avec celui-ci.

The system is cooperable with a mirror (28) for harnessing the EUV radiation by reflecting EUV radiation impinging thereon.

industries nucléaire et électrique - wipo.int
Le dispositif de nettoyage proposé est destiné à être utilisé dans un appareil lithographique EUV, par exemple un appareil lithographique EUV avec une source Sn.

A Gleaning arrangement (250) is provided for use in an EUV lithographic apparatus, for example an EUV lithographic apparatus with a Sn source.

communication - wipo.int
On obtient ainsi un collecteur EUV permettant d'obtenir, avec une somme d'effort de construction donnée, un angle solide recouvrable optimisé de la source de rayonnement EUV.

The result is an EUV collector in which an optimized collectable solid angle of the EUV radiation source is obtained with a given amount of constructional effort.

communication - wipo.int


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