Dans certains modes de réalisation, l'électrode avant peut être composée d'oxyde transparent conducteur (TCO) de type oxyde d'étain et/ou oxyde d'étain fluoré ou compendre un de ces oxydes.
L'invention concerne un substrat comprenant au moins une couche diffusante en un oxyde transparent conducteur (TCO), ainsi qu'un procédé de fabrication d'un tel substrat.
Le revêtement de faible émissivité peut comprendre a) un oxyde transparent conducteur (et facultativement un matériau dopant), ou b) au moins une couche de métal et au moins une couche diélectrique.
Après formation d'une couche d'oxyde conducteur transparent côté p (15), une couche d'oxyde conducteur transparent côté n (16) est formée.
La couche peut être utilisée avec un oxyde conducteur transparent dans un revêtement conducteur transparent.
L'épaisseur de la couche d'oxyde conductrice transparente (B) représente entre 30 % et 80 % de l'épaisseur de la couche d'oxyde conductrice transparente (A).
Des contacts métalliques sont appliquées sur l'oxyde conducteur transparent.
Des contacts en métal sont appliqués sur l'oxyde conducteur transparent.
Des contacts métalliques sont appliqués sur l'oxyde conducteur transparent.
Des contacts métalliques sont appliqués sur l'oxyde conducteur transparent.
Après le dépôt de la couche d'oxyde conducteur transparent, le substrat peut être recuit et gravé, dans un ordre quelconque, pour donner une texture à la couche d'oxyde conducteur transparent.
La présente invention concerne également un autre procédé de préparation d'un empilement d'oxyde conducteur transparent, le procédé comprend l'étape consistant à former une pellicule d'oxyde conducteur transparent sur un substrat traité par gravure sèche.
Le matériau conducteur comprend un oxyde conducteur mince transparent, un film métallique mince transparent, et/ou un nitrure métallique.
La première couche d'oxyde conductrice transparente (22) comprend de l'oxyde d'indium contenant un dopant métallique.
Un revêtement photovoltaïque réside sur le revêtement d'oxyde conducteur transparent.
La cathode est composée d'un matériau d'oxyde conducteur transparent.
Un revêtement d'oxyde conducteur transparent réside sur la seconde surface du substrat transparent.
La couche de contact d'oxyde conducteur transparent peut être de préférence dopée au ZnO avec un élément conducteur.
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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