Cette couche mince possède une Tc (résistivité nulle) d'environ 40 K. Est également décrit un procédé pour produire cette couche mince supraconductrice.
L'objet de la présente invention est de produire une couche mince supraconductrice présentant des caractéristiques supérieures de courant critique.
Un substrat à couche mince supraconductrice comprend un corps principal de substrat (10A) comprenant en outre une surface primaire (10B) dotée d'une pente de moyenne quadratique de courbure de grosseur (RΔq) inférieure ou égale à 0,4.
La présente invention concerne un procédé de polissage de surface pour améliorer l'orientation cristalline de la surface d'un matériau à base métallique en forme de ruban de manière à améliorer le courant critique d'une couche mince supraconductrice.
Un supraconducteur à oxydes est composé du matériau de base en forme de ruban, d'une couche intermédiaire formée sur ledit matériau et d'une couche mince supraconductrice à oxydes formée sur la couche intermédiaire.
Lesdites particules nanofines (3) sont dispersées selon une densité de 1020 à 1024 particules/m3 dans le film mince à base d'oxyde supraconducteur (2).
L'invention concerne un matériau à film mince supraconducteur présentant de bonnes caractéristiques de supraconductivité par prévention de la diffusion d'éléments.
L'invention concerne également un procédé de production d'un matériau à film mince supraconducteur.
Ce procédé permet d'obtenir une mince couche supraconductrice présentant une surface lisse dépourvue de défauts ainsi que d'excellentes propriétés supraconductrices.
L'invention concerne un film mince supraconducteur qui est formé sur un substrat saphir dans des conditions simples.
Le matériau (1) à film mince supraconducteur comprend un substrat métallique texturé (10) et un film d'oxyde supraconducteur (30) formé sur le substrat métallique texturé (10).
L’invention concerne également un procédé de fabrication du matériau en film mince supraconducteur (1) et un procédé de fabrication de la tige métallique supraconductrice (10).
L'invention concerne un fil supraconducteur dans lequel au moins un film mince supraconducteur et un film de stabilisation sont formés de manière séquentielle sur un substrat présentant une certaine largeur et une certaine longueur.
Chacun des dispositifs de détection gyroscopique est composé d'une structure sous forme de couche mince multicouche supraconductrice.
Cette invention concerne un film mince à base d'oxyde supraconducteur (2) comprenant des particules nanofines (3) servant de piège de flux magnétique, dispersées dans le film.
L'invention concerne un procédé permettant de former un dispositif supraconducteur (232), faisant appel à une technique d'attaque sélective mise en oeuvre sur des couches minces supraconductrices.
L'invention concerne un appareil permettant de former une fine pellicule à plusieurs composants, telle d'une fine pellicule supraconductrice, sur un substrat.
Cet appareil comprend un support (104) prévu pour maintenir au moins un substrat et une cuve de dépôt/réaction.
L'invention concerne un procédé à reproductibilité améliorée permettant de fabriquer des dispositifs supraconducteurs à couche mince sur des substrats MgO.
Le diamètre des particules nanofines (3) va de 5 à 100 nm.
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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