L'étape d'exposition par photorépétition présente une première étape d'exposition, dans laquelle un premier photomasque (M1) est utilisé, et une seconde étape d'exposition (M2), dans laquelle un second photomasque (M2) est utilisé.
Les motifs du masque photographique sont transférés à la tranche au moyen d'une technique de photorépétition.
L'invention vise à éviter de telles erreurs dans les appareils de lithographie fonctionnant selon le principe de balayage progressif ou de photorépétition.
Des images sont capturées au moyen d'un procédé d'étapes et de répétitions tandis que les mêmes positions sont superposées les unes sur les autres.
Elle aime les histoires de répétition pour la «musique du langage».
Le procédé de fabrication inclut une étape de photolithographie consistant à effectuer une exposition par photorépétition pour fabriquer un substrat à matrice active et un contre-substrat, constituant tous deux un panneau d'affichage à cristaux liquides.
La couche semi-conductrice est irradiée par procédé de recuit laser à répétition de balayage, qui agglomère des parties de la couche semi-conductrice.
Dans la lithograpie à plein champ ou à répétition par étapes à rayons X, une telle interruption permet d'obtenir des détails dont la taille est inférieure au micron.
Architecture évolutive normalisée permettant une croissance facile et reproductible pour l’établissement de nuages multiples.
Architecture évolutive standardisée permettant une croissance par répétition pour des clouds multiples.
Ainsi, un panneau d'affichage à cristaux liquides à multiples pilotes d'éléments d'image avec une définition d'affichage améliorée est fabriqué par exposition par photorépétition.
Il témoigne : « Nous sommes passés directement de la confection de plaque avec report à un système CTP utilisant Artwork Systems.
L'invention concerne un procédé d'exposition de pièce utilisé dans un processus à répétition à double exposition, consistant d'abord à former une configuration de réticule.
La présente invention concerne un procédé d'exposition d'un élément à travailler utilisé dans un processus d'exposition double par progression et par répétition qui commence par la formation d'un motif pour un réticule.
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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