L'invention porte sur une structure de trous d'interconnexion empilés pour réduire la raideur verticale qui comprend : une pluralité de trous d'interconnexion empilés, chaque trou d'interconnexion étant agencé sur une structure de type disque.
Un passage à rivet (1315) et un passage empilé (1110) formé par un passage à bouton (910) et un passage borgne empilé (1111) peuvent être utilisés pour relier électriquement les deux couches d’électrode intérieures ensemble.
La présente invention concerne des systèmes, des procédés et un appareil destinés à des trous métallisés empilés présentant une structure de trous métallisés supérieure et une structure de trous métallisés inférieure.
Les parois latérales de la structure de blindage peuvent être formées par un anneau de trous métallisés ou par des canaux.
Les diverses couches d'enregistrement d'information sont empilées à l'aide de couches intermédiaires, chaque couche d'enregistrement d'information comprenant des sillons méandriformes.
La présente invention concerne spécifiquement une pile dans laquelle une électrode positive (21) et une électrode négative (22) sont empilées à travers une couche électrolytique (24).
La présente invention concerne un procédé de fabrication de cartes de circuit imprimé à couches multiples à accumulation qui comportent une structure de trou d'interconnexion empilée qui permet le montage de composant à haute densité.
La présente invention a trait à une structure de trous d'interconnexion empilés (200) aptes à la transmission de signaux à haute fréquence ou de courant à haute intensité à travers des couches conductrices d'un support de dispositif électronique.
Dans une feuille composite (1), une couche élastique (11) et une couche non élastique (12) sont reliées l'une à l'autre et sont empilées par le biais de multiples raccords (13).
Les interconnexions électriques et thermiques ménagées dans la paroi (14) et le substrat (12) sont réalisées au moyen de la pluralité d'interconnexions entre couches décalées ou empilées.
Dans ce procédé, tous les trous d'interconnexion empilés possibles (c'est-à-dire, autres que les trous d'interconnexion empilés nécessaires à la connectivité et non congestionnés) du réseau d'alimentation peuvent être virtuellement retirés.
La structure de trous d'interconnexion empilés comporte au moins trois pistes conductrices (205a, 205b, 205c) appartenant à trois couches conductrices adjacentes (110a, 110b, 110c) séparées par des couches diélectriques (120), alignées selon un axe z.
L'invention porte sur une structure de trous d'interconnexion empilés pour réduire la raideur verticale qui comprend : une pluralité de trous d'interconnexion empilés, chaque trou d'interconnexion étant agencé sur une structure de type disque.
Un passage à rivet (1315) et un passage empilé (1110) formé par un passage à bouton (910) et un passage borgne empilé (1111) peuvent être utilisés pour relier électriquement les deux couches d’électrode intérieures ensemble.
L'invention concerne un substrat à puces à interconnexions verticales empilées intégrées.
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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