La composition filmogène pour la nanoimpression comprend un composé de silicium polymérique présentant une fonction de déclenchement d'une réaction de durcissement par effet photochimique.
Cette invention se rapporte à un dispositif de photopolymérisation et à un procédé de photopolymérisation utilisant ce dispositif.
La composition filmogène pour la nanoimpression comprend un composé de silicium polymérique présentant une fonction de déclenchement d'une réaction de durcissement par effet photochimique.
Les composés de photopolymérisation sont utiles en tant que l'élément de photopolymérisation de compositions photographiques ou de compositions thermodurcissables.
La présente invention concerne un outil de sélection de système de photopolymérisation.
L'invention porte également sur un procédé de prototypage rapide à photodurcissement, et sur un autre dispositif de prototypage rapide à photodurcissement et sur un procédé correspondant.
L'invention porte sur un dispositif de prototypage rapide à photodurcissement.
Si la couche adhésive est une couche photovulcanisable, la couche de protection bloque de préférence la lumière utilisée pour durcir la couche adhésive photovulcanisable.
La présente invention a trait à une composition de résine photodurcissable extrêmement facile à façonner avant photodurcissage, et qui se révèle également remarquablement résistante aux solvants et très souple après photodurcissage.
L'invention concerne une structure de rotation formée de résine magnétique photodurcissable.
On peut faire en sorte que la composition soit réticulée par l'intermédiaire d'un traitement thermique de durcissement par effet photochimique et traitement thermique de durcissement.
L'invention se rapporte également à une composition de photorésine négative utilisant cette composition photodurcissable.
Finalement, l'article de résine durcie formé à l'intérieur de la cavité est retiré du moule.
L'invention concerne un dispositif de photopolymérisation portatif, léger, contenant une seule DEL.
Le produit durci de cette composition photodurcissable présente d'excellentes propriétés de thermorésistance et d'isolation.
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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