Le film de passivation/tampon peut être un film de passivation/tampon à phase cubique.
L'agent de passivation concentré est éliminé et un agent de passivation à concentration d'entretien est ajouté.
La présente invention concerne un matériau de passivation approprié à la passivation d’une surface en métal.
La couche de passivation peut être organique.
La présente invention a trait à un procédé de formation d'interconnexions de passivation automatique.
Un matériau de passivation est déposé dans une ou plusieurs tranchées.
Cela permet d'obtenir une couche de passivation (11) Cr2O3 de grande qualité qui épouse bien la forme du substrat, et une excellent adhérence au SiO2 et au Si3N4.
L'agent de passivation est dérivatisé avec des entités chimiques qui permettent une étroite adsorption et/ou une liaison covalente de l'agent de passivation à des polymères organiques ou à des surfaces élastomères.
Une enveloppe de passivation encapsule le dispositif CI et s'étend aussi loin que le support; l'enveloppe de passivation est mécaniquement ancrée dans les faces latérales dans les conducteurs de connexion.
Une couche de câblage (120) est disposée sur la couche de passivation (112).
La présente invention concerne un procédé de passivation d'une ligne métallique sans génération de craquelures.
Les compositions renferment une amine, un agent de passivation et de l'eau.
Une couche de matériau de passivation est déposée sur les parties de surface séchées.
La couche de passivation comprend un élément du groupe 13 et un composé du type chalcogénure.
Une couche mince de passivation peut être formée sur l'électrode.
L'invention concerne un procédé de passivation de corps solides pyrophoriques.
Le procédé selon l'invention de passivation de matières solides dites par processus direct consiste à combiner les matières solides ainsi désignées avec une composition de passivation qui contient de l'argile, une base et de l'eau.
L'addition de cette passivation confère une meilleure stabilité au capteur.
Par passivation, on entend la neutralisation de l'activité électronique des dopants.
L'invention concerne également un dispositif de micro-structuration et passivation simultanées.
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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