boîte à oxygène de détresse et de premier secours avec 3 masques

boîte à oxygène de détresse et de premier secours avec trois masques

Prenez soin de vous-même — mettez votre propre masque d’oxygène d’abord!;

Le second masque est appliqué tandis que le premier masque est encore présent, ce qui permet ainsi d’amener le second masque à s’auto-aligner avec le premier masque.

Le procédé consiste également à lire un premier masque d'écriture à partir d'un troisième registre, le premier masque d'écriture étant différent du premier masque de lecture.

Cette couche de masquage à motifs comprend généralement un premier masque et au moins un masque latéral avoisinant le premier masque.

Le premier masque est un masque déphaseur et le second masque est un masque de structure monophasique.

Un premier masque est formé sur l'empilement de masques de gravure.

Un premier masque de résine photosensible (RP) avec des premières caractéristiques de masque se trouve sur la couche de gravure.

Des premières entretoises peuvent être formées le long des éléments du premier masque, puis le premier masque peut être retiré afin de laisser un deuxième masque correspondant aux premières entretoises.

L'utilisation du second masque permet de graver la première couche de formation de masque et de former ainsi un premier masque de motif de tranchée de câblage.

La seconde partie du masque comprend un élément de masque supplémentaire espacé par rapport à la première partie du masque, une partie présentant un rétrécissement, ou un espace situé dans la première partie du masque.

Après que la gravure du moule a été réalisée par le premier masque, la gravure est réalisée de façon additionnelle non par retrait du premier masque mais par recouvrement partiel du premier masque avec le deuxième masque.

Le second motif du masque est espacé du premier motif par une première distance.

Le premier masque et le second masque sont obtenus en partitionnant la disposition de masque.