La présente invention concerne un magnétron et un dispositif de pulvérisation au magnétron.
Le dispositif de pulvérisation au magnétron comprend le magnétron.
L'invention porte également sur un dispositif de pulvérisation cathodique magnétron comprenant le magnétron et sur un procédé pour la pulvérisation cathodique magnétron utilisant le dispositif de pulvérisation cathodique magnétron.
Le système comporte au moins une paire de doubles magnétrons qui possède un premier magnétron et un second magnétron, chaque magnétron étant conçu pour supporter un matériau cible.
L'invention porte sur une source pour magnétron, qui comprend un matériau cible, un magnétron situé au-dessus de celui-ci et un mécanisme de balayage raccordé au magnétron pour la commande du mouvement du magnétron au-dessus du matériau cible.
On utile comme générateur de micro-ondes un magnétron à refroidissement par air logé dans une boîte à magnétron (4).
La présente invention concerne une cible de pulvérisation magnétron rotative et un appareil de pulvérisation magnétron correspondant.
Ledit système peut comporter un dispositif d'alimentation qui alimente un premier, un deuxième et un troisième dispositifs à magnétrons.
L'invention concerne également un procédé pour remplacer un vieux tube (3) d'un magnétron (1) tel que décrit précédemment par un nouveau tube (3).
Ledit dispositif magnétron présente une pluralité d'électrodes du magnétron (6) indépendantes les unes des autres, et qui présentent des parties avant du magnétron à angle droit, disposées les unes à côté des autres et parallèles les unes aux autres.
Selon une mise en œuvre de ce mode de réalisation, les ensembles magnétrons indépendants comprennent des ensembles magnétrons à dérive fermée.
L'ensemble de magnétrons comprend un magnétron plan horizontal avec une cible en métal liquide, un magnétron rotatif cylindrique avec une cible en métal et un jeu d'un ou de plusieurs blindages formant une chambre entre les magnétrons plan et rotatif.
Il connecte de manière opérable la source d'alimentation au magnétron pour le charger et il est configuré pour charger le magnétron selon une première impulsion.
La pulvérisation peut être une pulvérisation à magnétron.
Le premier commutateur connecte de façon fonctionnelle l'alimentation en courant au magnétron pour charger le magnétron, et le premier commutateur est configuré pour charger le magnétron conformément à une première impulsion.
Les deux techniques exploitent le mouvement magnétron d'ions.
Dans une étape suivante, le vieux tube (3) est enlevé du magnétron (1) et remplacé par le nouveau tube (3) pour ensuite enlever de nouveau l'élément de dérivation.
Le magnétron peut fonctionner dans une plage de température d'environ 850 °C à 1 050 °C. Le magnétron peut comprendre un refroidissement par conduction.
Le système peut comprendre un dispositif d'alimentation (10) servant à alimenter un premier dispositif à magnétrons et un second dispositif à magnétrons.
Pendant le traitement (FIG. 2), le magnétron mobile est positionné radialement dans la zone extérieure avec une extrémité ouverte en butée contre une extrémité ouverte du magnétron stationnaire pour former un seul magnétron en circuit ouvert.
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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