Dictionnaire anglais - français

électronique et électrotechnique - acta.es
The sputtering can be magnetron sputtering.

La pulvérisation peut être une pulvérisation à magnétron.

métallurgie et sidérurgie - wipo.int
Provided is a target for use in magnetron sputtering.

La présente invention se rapporte à une cible destinée à être utilisée dans une pulvérisation à magnétron.

métallurgie et sidérurgie - wipo.int
The present invention relates to a method for the enhanced production of insulating layers by High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) or High Power Pulsed Magnetron Sputtering (HPPMS).

La présente invention concerne un procédé de production améliorée de couches isolantes par pulvérisation à magnétron et impulsions de haute puissance (HiPIMS) ou par pulvérisation à magnétron pulsée à haute puissance (HPPMS).

métallurgie et sidérurgie - wipo.int
The plasmatization can be conducted by using a magnetron sputtering device.

La plasmatisation peut être conduit en utilisant un dispositif de pulvérisation à magnétron.

santé - wipo.int
A magnetron sputtering device (10) for coating planar substrates (90) with sputtered ions.

Dispositif de pulvérisation à magnétron (10) destiné à recouvrir des substrats plats (90) d'ions pulvérisés.

métallurgie et sidérurgie - wipo.int
Control of crystallographic texture and surface morphology of pt/tio₂ templates for enhanced pzt thin film texture... Titaniumddeposited by dc magnetron sputtering yields [0001] texture on adthermally oxidized Si wafer...
électronique et électrotechnique - core.ac.uk - PDF: hdl.handle.net
Electrical peculiarities in al/si/ge/.../ge/si and al/sige/si structuresThe current–voltage (I–V) and capacitance–voltage (C–V) behaviour of different Si/Ge multilayers and SiGe single layers prepared on p-type Si substrates by magnetron sputtering and annealing, has been studied in the temperature range of 80–320 K by using Al Schottky contacts as test structures...
Carbon nitride transparent counter electrode prepared by magnetron sputtering for a dye-sensitized solar cellCarbon nitride (CNx) films supported on fluorine-doped tin oxide (FTO) glass are prepared by radio frequency magnetron sputtering, in which the film thicknesses are 90â100 nm, and the element components in the CNx films are in the range of x = 0...
 PDF: doaj.org
Indium-zinc-tin-oxide film prepared by reactive magnetron sputtering for electrochromic applicationsThis paper reports on the fabrication of indium-zinc-tin-oxide (IZTO) transparent conductive film deposited by direct current (DC) reactive magnetron sputtering...
 PDF: doaj.org

Publications scientifiques

Interest of pulsed and modulated dc discharges for depositing insulating compounds by reactive magnetron sputtering
Reactive magnetron sputtering using dc discharges simultaneously pulsed at medium-frequency (a few tenths of kHz) and modulated at low-frequency (a few Hz) enables the deposition of insulating ceramic films with a high growth rate and an excellent physical quality...
...La pulvérisation magnétron réactive en utilisant des décharges dc simultanément pulsées à moyenne fréquence (quelques dizaines de kHz) et modulées à basse fréquence (quelques Hz) permer d'élaborer des films céramiques non conducteurs avec une grande vitesse de croissance et une excellente qualité physique...
recherche et propriété intellectuelle - core.ac.uk -
Des jets d’aérosols pour la synthèse de nanocomposites sur de grandes surfaces
... This versatile single step process operates under vacuum by combining the jet ofnanoparticles technology with classical magnetron sputtering...
... Ce procédé polyvalent combine sous vide la technologie desjets de nanoparticules avec la pulvérisation magnétron classique...
général - core.ac.uk -
Caracterisations structurales, chimiques et optiques de films minces aln:er préparés par pulvérisation magnétron r.f.
... magnetron sputtering at room temperature to study the correlation between 1...
... pulvérisation magnétron pour étudier la corrélation entre la photoluminescence 1,54 μm IR (PL), la structure cristalline AlN et le taux de concentration en Er...
recherche et propriété intellectuelle / Europe - core.ac.uk -

Synonymes et termes associés anglais

Exemples anglais - français

industrie / énergie / communication / politique et structures industrielles / électronique et électrotechnique / sciences naturelles et appliquées - iate.europa.eu
industrie mécanique - techdico
industrie mécanique - techdico
électronique et électrotechnique - iate.europa.eu
[...]

Traductions en contexte anglais - français

A magnetron sputtering device including the magnetron and a method for magnetron sputtering using the magnetron sputtering device are also provided.

L'invention porte également sur un dispositif de pulvérisation cathodique magnétron comprenant le magnétron et sur un procédé pour la pulvérisation cathodique magnétron utilisant le dispositif de pulvérisation cathodique magnétron.

métallurgie et sidérurgie - wipo.int
The magnetron sputtering device comprises the magnetron.

Le dispositif de pulvérisation au magnétron comprend le magnétron.

électronique et électrotechnique - wipo.int
A magnetron and a magnetron sputtering device.

La présente invention concerne un magnétron et un dispositif de pulvérisation au magnétron.

électronique et électrotechnique - wipo.int
The present invention relates to a rotatable magnetron sputtering target and a magnetron sputtering apparatus thereof.

La présente invention concerne une cible de pulvérisation magnétron rotative et un appareil de pulvérisation magnétron correspondant.

métallurgie et sidérurgie - wipo.int
The invention provides a magnetron sputtering system.

L'invention concerne un système de pulvérisation magnétron.

métallurgie et sidérurgie - wipo.int
Plasma sputtering covers a range of technologies with varying names including Advanced Plasma sputtering and Magnetron sputtering.

La pulvérisation par plasma couvre toute une gamme de technologies comprenant des noms différents, dont la pulvérisation de plasma avancé et la pulvérisation magnétron.

général - CCMatrix (Wikipedia + CommonCrawl)
The answer is a process called magnetron sputtering.

Ce procédé porte le nom de MAGNETRON SPUTTERING.

général - CCMatrix (Wikipedia + CommonCrawl)
Our technology is based on conventional cathodic magnetron sputtering.

Notre technologie est basée sur la pulvérisation cathodique magnétron conventionnelle.

général - CCMatrix (Wikipedia + CommonCrawl)
The rotatable magnetron sputtering target comprises a cylinder target, a pole shoe and a magnetron.

La cible de pulvérisation magnétron rotative comprend une cible cylindrique, une pièce polaire et un magnétron.

métallurgie et sidérurgie - wipo.int
Typically the deposition device is a magnetron sputtering device.

Le dispositif de dépôt est généralement un dispositif de pulvérisation au magnétron.

métallurgie et sidérurgie - wipo.int
The material can be produced by magnetron sputtering method.

Ladite matière peut être obtenue grâce à un procédé de pulvérisation magnétron.

informatique et traitement des données - wipo.int
Plasma sputtering covers a range of technologies known by a variety of names including advanced plasma sputtering and magnetron sputtering.

La pulvérisation par plasma couvre toute une gamme de technologies comprenant des noms différents, dont la pulvérisation de plasma avancé et la pulvérisation magnétron.

général - CCMatrix (Wikipedia + CommonCrawl)
A cathode assembly for magnetron sputtering of a workpiece, and sputtering apparatus and methods of sputtering using same are provided.

L'invention se rapporte à un ensemble cathodique pour la pulvérisation magnétron d'une pièce à travailler, ainsi qu'à un appareil de pulvérisation et à des procédés de pulvérisation mettant en oeuvre ledit appareil.

métallurgie et sidérurgie - wipo.int
Typically, the thin-film deposition technique is DC magnetron sputtering.

Typiquement, la technique de dépôt de film mince est une pulvérisation magnétron « DC ».

métallurgie et sidérurgie - wipo.int
The vacuum treatment apparatus comprises such a magnetron sputtering source.

L'appareil de traitement sous vide est doté d'une telle source de pulvérisation magnétron.

électronique et électrotechnique - wipo.int


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