L'invention concerne un système et des procédés d'estimation de paramètres de modèles d'un appareil lithographique et de commande de traitement lithographique à l'aide d'un appareil lithographique.
En conséquence, un flux d'électrons ayant des dimensions sub-lithographiques est utilisé sans nécessiter des étapes de traitement lithographique complexes.
L'invention concerne un support souple (100) destiné à soutenir un substrat pendant le traitement lithographique.
Cette invention concerne des dispositifs d'actionnement micro-mécaniques qui sont capables de fonctionner de manière bidirectionnelle et bistable, et qui peuvent être formés sur des substrats à l'aide de techniques de traitement lithographique.
La présente invention concerne un procédé de génération d'un modèle à deux niveaux pour un traitement lithographique par de multiples petits faisceaux.
L'invention concerne un masque photographique pour un traitement lithographique.
Ce masque comprend plusieurs éléments (104) pour obtenir un motif d'image.
La première surface est agencée sensiblement à l'extérieur de la zone traversée par le faisceau de rayonnement généré par la source de rayonnement pendant un traitement lithographique.
On peut appliquer une technique sous forme de procédé complémentaire ou de remplacement dans des étapes de traitement lithographiques variées dans la fabrication de circuits intégrés ou d'autres microdispositifs.
L'invention concerne une solution antimousse qui est introduite dans une solution de prérinçage, un révélateur, ou une solution de post-rinçage dans un appareil de traitement lithographique par rapport à la surface d'un élément imagé pouvant être traité.
Après dépôt sur ledit plan d'une couche de diélectrique (74), on forme, p. ex. par procédé litho humide, des ouvertures (de préférence des rainures) qui exposent les conducteurs du plan d'accès (50, 52).
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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