Les ions du gaz source peuvent être généralement des ions oxygène et les ions de gaz de déplacement sont généralement des ions fluor, les surfaces intérieures comprenant du tungstène.
Les ions de gaz dopant sont implantés dans la pièce, et les ions du gaz de dilution retirent de la pièce la couche superficielle déposée.
De plus, les ions métalliques se combinent avec les ions gazeux pour former d'autres composés de désinfection connus.
L'appareil comporte spécifiquement un piège à ions ou une cellule de collision contenant un gaz réactif qui accepte les charges d'ions de l'analyte et neutralise par là sélectivement les ions du gaz porteur.
Les ions négatifs sont une sorte d'ions de gaz chargés négativement dans l'air.
Les ions négatifs sont une sorte d'ions de gaz chargés négativement dans l'air.
L'invention porte sur un procédé permettant de produire un faisceau ionique comportant une proportion accrue d'ions d'analysat par comparaison aux ions de gaz porteur.
L'invention porte sur un appareil produisant un faisceau d'ions présentant une portion accrue d'ions d'un analyte donné, par rapport aux ions du gaz porteur.
Des ioniseurs en ligne délivrent des ions gazeux à travers des portes traversantes, des sas de chargement, des conduits de mise à l'air libre en groupe sous vide, ou des enceintes de neutralisation.
Des ions de gaz noble peuvent amorphiser au moins en partie la pièce pendant l'implantation.
En l'absence d'un orifice correctement positionné, les ions gazeux piégés se perdent par recombinaison ou mise à la terre.
Puis une couche de fragilisation (12) est formée en injectant au moins un élément parmi des ions hydrogène ou des ions de gaz rares dans le substrat de silicium (3).
On produit à cet effet un faisceau ionique en utilisant un gaz inerte générant des ions de gaz inerte destinés à compacter l'oxyde métallique pendant sa formation.
Cette masse présente deux surfaces opposées sur lesquelles le gaz subit une dissociation et une ionisation, et les ions du gaz relâchent des électrons et se recombinent afin de former des molécules du gaz.
gaz (sortant de la cavité résonnante de gaz) à une étincelle thermique ou à un
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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