Ledit filtre selon l'invention se caractérise en ce qu'il comporte des dispositifs (6) de protection contre les rayonnements émanant des résidus de filtration.
L'invention concerne des systèmes et des procédés de filtration pour éliminer un résidu de filtre d'un filtre employé dans la filtration d'un liquide (par exemple, eau grise).
Lorsque la chambre de filtration est remplie de résidu ou la vitesse de filtration est trop petite, arrêtez de filtrer, enlevez le résidu, de sorte que le milieu filtrant pour compléter un cycle de filtration.
Le résidu de filtrage ainsi produit est ajouté au sel de protection (7) nécessaire lors de l'élaboration de l'aluminium secondaire.
Lorsque la chambre de filtration est remplie de résidu ou la vitesse de filtration est trop petite, arrêtez de filtrer, enlevez le résidu, de sorte que le milieu filtrant pour compléter un cycle de filtration.
Pendant le processus de filtration, le résidu du filtre sur la surface du milieu filtrant est progressivement épaissi et la résistance du liquide à travers le résidu du filtre augmente et le taux de filtration diminue.
L'invention concerne un procédé permettant de purifier des gaz brûlés de fours et d'utiliser la poussière de filtrage ainsi produite.
Lorsque la chambre de filtration est remplie de résidu ou la vitesse de filtration est trop petite, arrêtez de filtrer, enlevez le résidu, de sorte que le milieu filtrant pour compléter un cycle de filtration.
Afin d'obtenir une faible teneur en humidité du résidu du filtre, un filtre à pression mécanique a été développé.
Les particules solides sont piégées sur la surface du milieu filtrant pour former le résidu du filtre.
Afin d'obtenir une faible teneur en humidité du résidu du filtre, un filtre à pression mécanique a été développé.
Le détachement des résidus (9) du filtre (5, 6) peut avoir lieu par lavage à contre-courant ou mécaniquement avec un racloir ou similaire.
En cours de filtration, la couche de scories sur la superficie du milieu de filtrage est graduellement épaissie, la résistance du liquide passant par la couche de scories est augmentée, et la vitesse de filtration est réduite.
Pendant le processus de filtration, le résidu du filtre sur la surface du milieu filtrant est progressivement épaissi et la résistance du liquide à travers le résidu du filtre augmente et le taux de filtration diminue.
Lorsque la chambre de filtration est remplie de résidu ou la vitesse de filtration est trop petite, arrêtez de filtrer, enlevez le résidu, de sorte que le milieu filtrant pour compléter un cycle de filtration.
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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