Un système de régulation en boucle fermée effectue la surveillance in situ de la vitesse de croissance du film de nitrure du groupe III et ajuste les paramètres de croissance du film selon la nécessité pour maintenir une vitesse de croissance cible.
Les deux ou plusieurs ensembles de distribution de gaz peuvent être conçus de façon à avoir des profils de taux de croissance de film radial caractéristiques complémentaires.
Ce système MOCVD assisté par UV comprend une source d'UV qui irradie la zone de dépôt et améliore la vitesse de croissance de couche mince.
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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