Un formeur de faisceaux applique des coefficients de formeur de faisceaux aux signaux audio reçus, générant ainsi une sortie de formeur de faisceaux.
Le formeur de faisceaux applique les coefficients du formeur de faisceaux indiqués aux signaux reçus sur les capteurs dans l'état du signal, ce qui permet de générer une sortie de formeur de faisceaux.
Ce système comprend en outre un formeur de faisceaux en communication avec ledit premier module de traitement, et un formeur de faisceaux adaptatif en communication avec ledit second module de traitement et ledit formeur de faisceaux.
Système de mise en forme de faisceau par déphasage à bande étroite.
La présente invention concerne un formeur de faisceaux cascadable pouvant coopérer avec un ou plusieurs formeurs de faisceaux cascadables pour former un appareil de formation de faisceaux personnalisé.
Des coefficients de formation de faisceau d'un formateur de faisceau adaptatif de l'appareil sont déterminés en fonction de l'indication de direction de l'écho reçue.
Des valeurs quantifiées de retard utilisées dans un organe numérique de mise en forme de faisceaux sont sélectionnées de manière à réduire au minimum la dérivée de la configuration de l'organe de mise en forme de faisceaux.
Les données statistiques peuvent être utilisées dans le calcul de coefficients de formation de faisceau devant être appliqués par un dispositif de formation de faisceau à des signaux reçus au niveau d'un dispositif.
L'invention porte sur un dispositif d'amélioration de son cible (10) qui a un premier formeur de faisceau (16) et un second formeur de faisceau (17) qui utilisent différents procédés.
Un vecteur de pondération de dispositif de formation de faisceau corrigé est déterminé pour l'angle d'intérêt sous la forme d'une combinaison linéaire des vecteurs de pondération de dispositifs de formation de faisceau proches.
Les coefficients de dispositifs de formation de faisceaux peuvent être pré-calculés.
Le processeur de formeur de faisceaux utilise les microphones pour réaliser des opérations de formation de faisceaux.
En outre, une couche formatrice de faisceau est électromagnétiquement couplée à la couche de MEMS, tandis qu'une couche d'espacement est interposée entre la couche de MEMS et la couche formatrice de faisceau.
Un tel formeur de faisceaux trouve généralement une application utile dans des systèmes de communication vocale mains libres.
Chacun des dispositifs de formation de faisceau proches présente un vecteur de pondération de dispositif de formation de faisceau proche.
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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