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Dictionnaire anglais - français

ion-

beam sputtering

gravure ionique
électronique et électrotechnique - acta.es

Publications scientifiques

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Etude des oxynitrures de silicium en couches minces déposées par pulvérisation en vue d'applications optiques
... A comparison with the optical performances of classical stacks made of oxide, deposited by ion beam sputtering, have been made and we have proposed some solutions to decrease the two sources of losses....
général - core.ac.uk - PDF: core.ac.uk
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Elaboration de jonctions tunnel magnétiques à barrière srtio3 pour application bas ra
... Former studies have shown that SrTiO3 deposited by ion beam sputtering (IBS) could crystallize at an unusual low temperature (< 400°C) which could make it compatible with the magnetic layers of MTJs....
politique tarifaire / Europe / recherche et propriété intellectuelle - core.ac.uk - PDF: core.ac.uk
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Biomedical and environmental applications of secondary ion emission microanalysis
... ion beam sputtering on various tissue preparations...
politique tarifaire - core.ac.uk -
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Properties of amorphous si:h films prepared by dual ion beam sputteringThe Ion Beam Sputtering (IBS) and the Dual Ion Beam Sputtering (DIBS) allow independent control of the deposition kinetics and the hydrogenation of hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H)...
général - core.ac.uk - PDF: zernike.eldoc.ub.rug.nl
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Micrometer-scale machining of metals and polymers enabled by focused ion beam sputteringThis work combines focused ion beam sputtering and ultra-precision machining for microfabrication of metal alloys and polymers....
général - core.ac.uk - PDF: digital.library.unt.edu
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Formation of ripple pattern on silicon surface by grazing incidence ion beam sputteringOff-normal low energy ion beam sputtering of solid surfaces often leads tomorphological instabilities resulting in the spontaneous formation of ripplestructures in nanometer length scales....
général - core.ac.uk - PDF: arxiv.org
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Ion beam sputtering induced ripple formation in thin metal films... Au, Pt, Ag, Cu and Co under Ar^{+} ion beam sputtering at grazingincidence....
général - core.ac.uk - PDF: arxiv.org
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Briefs enhancement of memory performance using doubly stacked si-nanocrystal floating gates prepared by ion beam sputtering in uhvSiOx/SiO2 have been prepared on Si wafers by ion beam sputtering deposition in ultrahigh vacuum (UHV) and subsequently annealed to form single-layer and doubly stacked Si nanocrystals (NCs)....
général - core.ac.uk - PDF: smdl.snu.ac.kr

Synonymes et termes associés anglais

sputtering

Exemples anglais - français

ion-beam sputtering

gravure ionique
électronique et électrotechnique - acta.es

Traductions en contexte anglais - français

The protective coating can be deposited by electron-beam vaporization, magnetron- or ion-beam sputtering.

Les enrobages protecteurs peuvent être déposés par vaporisation par faisceaux d'électrons, ou par pulvérisation magnétron ou ionique..

sciences naturelles et appliquées - wipo.int
The substantially amorphous permalloy film is formed by ion-beam sputtering.

Le film en permalloy essentiellement amorphe est formé par pulvérisation par faisceau ionique.

industrie mécanique - wipo.int
The metal coating for the laminated stent may be provided by sputtering, such as vacuum deposition or ion beam sputtering, spraying, dipping, or other known methods.

Le revêtement métallique pour le stent laminé peut être appliqué par pulvérisation, par exemple dépôt sous vide ou pulvérisation par faisceau ionique, par vaporisation, par trempe ou par toutes autres méthodes connues.

santé - wipo.int
The buffer layers are deposited at near-normal incidence via a low particulate ion beam sputtering process.

Les couches tampon sont déposées à une incidence proche de la normale par un processus de vaporisation de faisceau d'ions à faible contamination particulaire.

communication - wipo.int
When the region is etched, by ion beam sputtering, chemically enhanced charged particle beam etching, or chemical etching, a thicker structure remains because of the reduced etch rate of the hardened pattern.

Lorsque la région est gravée, par pulvérisation au canon à ions, par gravure par faisceau de particules chargées chimiquement améliorée ou par gravure chimique, une structure plus épaisse demeure du fait de la vitesse de gravure réduite du motif durci.

industrie mécanique - wipo.int
Surface texturing may be performed by ion beam sputtering, and ion assisted coating forms the thin conformal coating, and thicker coating if desired.

La texturation de surface peut être réalisée par pulvérisation ionique, le revêtement mince conforme, voire le revêtement plus épais étant obtenu par ionisation.

métallurgie et sidérurgie - wipo.int
An ion beam sputtering film deposition apparatus is provided which can form a high-quality thin film that is dense, smooth and faultless.

Appareil de déposition de couches par pulvérisation à faisceau d'ions permettant de former des couches minces de haute qualité qui sont denses, lisses et sans défaut.

métallurgie et sidérurgie - wipo.int
E-beam technology, also referred to as physical vapor deposition (PVD), ion-assisted deposition (IAD), and ion beam sputtering (IBS) are the coating processes currently available.

La technologie de faisceau d’électrons, également désignée sous le nom du dépôt en phase vapeur physique (PVD), dépôt ion-assisté (IAD), et faisceau d'ions pulvérisés (IBS) sont les processus de revêtement actuellement disponibles.

général - CCMatrix (Wikipedia + CommonCrawl)
The dielectric constituting the tunnel barrier consists of an at least partially crystalline perovskite, said dielectric being deposited by ion beam sputtering in a vacuum chamber.

Le matériau diélectrique constitutif de la barrière tunnel est constitué de perovskite au moins partiellement cristallisé, et le dépôt dudit matériau étant réalisé par pulvérisation par faisceau d'ions dans une enceinte sous vide.

électronique et électrotechnique - wipo.int
This reflective mask blank is characterized in that the absorbing layer is a Cr layer having a low EUV reflectance which is formed by ion beam sputtering.

Cette ébauche de masque réfléchissant est caractérisée en ce que la couche absorbante est une couche Cr de faible réflectance EUV qui est formée par pulvérisation cathodique à faisceau ionique.

électronique et électrotechnique - wipo.int
A target for use in ion beam sputtering is arranged for varying the chemical composition of the deposited film without requiring substantial fabrication of a new target.

On agence une cible utilisée dans la pulvérisation par faisceau ionique afin de faire varier la composition chimique de la couche mince déposée sans qu'il faille fabriquer une nouvelle cible.

métallurgie et sidérurgie - wipo.int
The fold-mirrors each include a plurality of layers deposited by ion-beam sputtering onto a substrate having a surface roughness of less than about 0.5 nanometers RMS.

Chaque miroir de renvoi comporte plusieurs couches déposées par pulvérisation au canon à ions sur un substrat dont la surface possède une rugosité de moins de 0,5 nanomètre environ en moyenne quadratique.

sciences naturelles et appliquées - wipo.int
The method is provided for forming the multilayer film for the reflective mask blank for EUV lithography on a film forming substrate by using ion beam sputtering method.

Le procédé de formation de film multicouche pour l‘ébauche de masque réfléchissant pour lithographie EUV sur un substrat de formation de film utilise un procédé de pulvérisation cathodique à faisceau ionique.

métallurgie et sidérurgie - wipo.int
An ion beam sputtering method is utilized for separating the sample piece (40) from the sample substrate (2) and for separating the tip of the probe (11) from the sample piece (40).

On utilise un processus de pulvérisation par faisceau d'ions pour séparer le morceau échantillon (40) du substrat échantillon (2) et pour séparer le bout de la sonde (11) du morceau échantillon (40).

industrie mécanique - wipo.int
The SPECTOR ion beam sputtering platform offers exceptional layer thickness control, enhanced process stability, and the lowest published optical losses in the industry.

La plateforme de pulvérisation par faisceau d’ions SPECTOR permet un contrôle exceptionnel de l’épaisseur de couches, offre une stabilité de processus améliorée et présente les pertes optiques publiées les plus faibles du secteur.

général - CCMatrix (Wikipedia + CommonCrawl)
Edmund Optics®, the world’s leading supplier of optical components, has ordered the SPECTOR® Ion Beam Sputtering System from Veeco Instruments Inc. (Nasdaq: VECO).

Edmund Optics® (EO), fournisseur mondial de composants optique, s’est procuré le système de pulvérisation par faisceau d’ions SPECTOR® de la société Veeco Instruments Inc. (Nasdaq: VECO).

général - CCMatrix (Wikipedia + CommonCrawl)


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