Le revêtement d'oxyde anodique est approprié à la fixation par collage de pièces en alliage d'aluminium.
La présente invention concerne un métal et des alliages métalliques pourvus d'un revêtement d'oxyde anodique étanche ayant au moins une cristallinité partielle.
L'invention concerne un substrat pour cellules solaires possédant un film de revêtement d'oxyde anodique sur un substrat métallique, les diamètres de pores formés dans la surface du film de revêtement d'oxyde anodique étant compris entre 10-600 nm.
Le revêtement d'oxyde anodique a une intensité de pic de spectre d'absorption des infrarouges attribuée à un groupe OH à 0,0001-0,16.
L'invention concerne également un élément en alliage d'aluminium obtenu en formant un revêtement d'oxyde anodique à la surface de l'alliage d'aluminium.
L'invention concerne des structures composites qui présentent une couche d'oxyde anodique poreuse telle que, par exemple, une couche d'oxyde d'aluminium anodique poreuse.
L'oxydation anodique se fait dans un électrolyte qui redissout l'oxyde d'aluminium de façon à former une couche d'oxyde anodique de 10 à 25 μm d'épaisseur.
Le film d'oxyde anodique se déforme dans la direction de compression à température ambiante.
Lesdits matériaux catalytiques comportent un substrat métallique couvert d'une couche d'oxyde anodique poreux et doté de nodules métalliques qui sont déposés par électrolyse dans les pores et s'étendent au-delà de la surface de la couche d'oxyde anodique.
Le film isolant est un film d'oxyde anodique du premier film conducteur.
La couche d'absorption électromagnétique (10) comprend un film d'oxyde anodique (4) formé, par exemple, par oxydation anodique de l'aluminium ou d'un alliage d'aluminium.
Une pluralité de nanotrous cylindriques (5) sont disposés sur le film d'oxyde anodique (4).
Le substrat en aluminium résistant à la corrosion et à l'usure comporte une couche d'oxyde anodique sur de l'aluminium et, déposée par-dessus en tant que couche de recouvrement externe, une couche de laque sol-gel organique ou inorganique.
L'invention concerne des procédés et des systèmes destinés à former un oxyde anodique haute tension sur une anode de métal valve.
Ledit film, principalement composé d'alumine, contient des dérivés de triazine thiol.
La structure d'oxyde d'anodisation provient du substrat d'aluminium et est entièrement composée d'oxyde d'aluminium.
La structure d'oxyde d'anodisation provient du substrat d'aluminium et est entièrement composée d'oxyde d'aluminium.
Le matériau de base (10b), la couche conductrice (11) et le film d'oxyde anodique (12a) peuvent transmettre les UV.
La structure d'oxyde d'anodisation provient du substrat d'aluminium et est entièrement composée d'oxyde d'aluminium.
Le matériau pouvant former une couche d'oxyde anodique peut comprendre une couche barrière réalisée sur un substrat.
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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