Un masque de réticule précis (10) avec des motifs sous forme de points constitue un ensemble supplémentaire d'informations nécessaires au calibrage du système.
On expose l'élément à travailler à travers le réticule.
On fabrique ledit masque à réticule (15) selon le procédé à double passe dans lequel on dessine d'abord sur le masque à réticule (15) les lignes de tracé (14).
On charge l'élément à travailler et le réticule dans le répétiteur.
On expose ensuite l'élément à travailler à travers le réticule après le repositionnement.
On a mis au point un appareil et un procédé de fabrication d'un masque à réticule.
Ensuite on réalise une configuration en dé (32) dans le masque à réticule (15) une pluralité de fois.
Un masque unitaire précis (figure 4) comportant des configurations de points donne les informations complémentaires requises aux fins d'étalonnage.
L'invention concerne un procédé d'exposition de pièce utilisé dans un processus à répétition à double exposition, consistant d'abord à former une configuration de réticule.
La présente invention concerne un procédé d'exposition d'un élément à travailler utilisé dans un processus d'exposition double par progression et par répétition qui commence par la formation d'un motif pour un réticule.
On défait le motif pour le réticule en enlevant un groupe des caractéristiques qui sont juxtaposées pour former des grappes en forme de polygone creux comportant un espace au centre.
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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