Dictionnaire anglais - français

The emission layer formed by rapid thermal processing does not require electro-forming to stabilize the film.

La couche d'émission formée au moyen du procédé thermique rapide ne nécessite pas d'électroformation afin de stabiliser la couche mince.

électronique et électrotechnique - wipo.int
Epitaxial silicon growth in a reduced pressure and temperature cvd reactor
In a Rapid Thermal Processing system working at a total pressure of a few torr we have obtained Selective Epitaxial Growth of Si at temperatures as low as 650°C....
...En procédé thermique rapide dans un système sous pression totale de quelques torrs, l'épitaxie sélective du silicium est réalisée à des températures aussi basses que 650°C....
politique tarifaire / recherche et propriété intellectuelle - core.ac.uk -
Rapid thermal processing of czochralski silicon substrates: defects, denuded zones, and minority carrier lifetimeRapid thermal processing (RTP) of Czochralski (Cz) silicon substrates is discussed with its attendant effects on defects, denuded zones, and minority carrier lifetime....
général - core.ac.uk - PDF: hdl.handle.net
High-performance randomly oriented zeolite membranes using brittle seeds and rapid thermal processing... These include 1)use of brittle seeds prepared by confined synthesis, 2)rubbing and leveling methods to obtain randomly oriented seed layers, 3)secondary hydrothermal growth to produce thin zeolite films, and 4)rapid thermal processing to remove structure-directing agents while minimizing crack formation (see picture; scale bar 500nm)....
A radiation model of a rapid thermal processing system.A model of the radiative heat transfer that takes place in anaxially symmetric rapid thermal processing chamber is presented....
Model based measurement in advanced rapid thermal processing... An observer algorithm making use of physical models was successfully applied to infrared pyrometry for rapid thermal processing....
Method and system for rapid thermal processingA method and system for rapid thermal processing (RTP) comprising a 2-step heating process and using at least one HID lamp is disclosed, in which a ripple-pyrometry temp....

Synonymes et termes associés anglais

Exemples anglais - français

technologie alimentaire - iate.europa.eu

Traductions en contexte anglais - français

Disclosed herein is a rapid thermal processing system.

La présente invention concerne un système de traitement thermique rapide.

électronique et électrotechnique - wipo.int
The method also comprises applying the first-principles radiation model to modify the rapid thermal processing performed in the rapid thermal processing step.

Ce procédé consiste également à appliquer ledit modèle de rayonnement de premiers principes afin de modifier le traitement thermique rapide exécuté pendant une phase de traitement thermique rapide.

industrie mécanique - wipo.int
A rapid thermal processing device and methods are provided for thermal processing of samples such as semiconductor wafers.

La présente invention concerne un dispositif et des procédés de traitement thermique rapide pour le traitement thermique d'échantillons tels que des tranches de semi-conducteurs.

électronique et électrotechnique - wipo.int
The refractory layer is formed during rapid thermal processing wherein ambient hydrogen is used in the thermal processing chamber.

L'invention concerne des procédés et des appareils pour former une couche réfractaire au cours d'un traitement thermique rapide dans lequel de l'hydrogène ambiant est utilisé dans la chambre de traitement thermique.

électronique et électrotechnique - wipo.int
In one embodiment, short-time thermal processing is implemented by flash rapid thermal processing (222) of the doped surface layer.

Selon un mode de réalisation, un traitement thermique rapide est mis en oeuvre par traitement thermique par vaporisation instantanée de la couche de surface dopée.

métallurgie et sidérurgie - wipo.int
An improved method for rapid thermal processing of a semiconductor wafer.

L'invention concerne un procédé amélioré destiné à un traitement thermique rapide d'une plaquette de semi-conducteur.

électronique et électrotechnique - wipo.int
Disclosed herein is a heater module of a rapid thermal processing apparatus.

La présente invention concerne le module chauffant d'un appareil de traitement thermique rapide.

électronique et électrotechnique - wipo.int
A system and method for providing substantially defect free rapid thermal processing.

L'invention concerne un système et un procédé de traitement thermique rapide donnant des pièces sensiblement exemptes de défaut.

électronique et électrotechnique - wipo.int
The present disclosure is directed to controlling wafer temperature during rapid thermal processing.

L'invention concerne la régulation de la température d'une plaquette pendant un traitement thermique rapide.

électronique et électrotechnique - wipo.int
Methods and apparatus for hyperbaric rapid thermal processing of a substrate are described.

L'invention concerne des procédés et un appareil pour le traitement thermique rapide hyperbare d'un substrat.

électronique et électrotechnique - wipo.int
The aim of the invention is to permit the rapid cooling of substrates in a rapid thermal processing plant.

L'invention vise à permettre un refroidissement rapide de substrats dans un dispositif de chauffage rapide.

électronique et électrotechnique - wipo.int
Embodiments of the present invention provide apparatus and methods for performing rapid thermal processing.

Dans des modes de réalisation, l'invention concerne un appareil et des procédés pour effectuer un traitement thermique rapide.

électronique et électrotechnique - wipo.int
Microwave energy is used as a radiation source for rapid thermal processing of semiconductor wafers.

L'invention concerne une énergie à micro-ondes utilisée comme source de rayonnement pour un traitement thermique rapide de plaquettes semi-conductrices.

électronique et électrotechnique - wipo.int
The present invention generally relates to methods of cooling a substrate during rapid thermal processing.

La présente invention concerne généralement des procédés de refroidissement d'un substrat pendant un traitement thermique rapide.

électronique et électrotechnique - wipo.int
The present invention generally relates to methods for the rapid thermal processing (RTP) of a substrate.

La présente invention concerne des procédés de traitement thermiques rapides (TTR) d'un substrat.

industrie mécanique - wipo.int


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