dépôt d'énergie aux bords du plasma
L'invention concerne également un système pour mettre en œuvre le contrôle de la température de la limite supérieure du plasma et du substrat lors du traitement par plasma.
Comme leur nom l'indique, ils viennent directement du processus de fermentation.
calcul cinétique auto-consistant des fonctions de distribution des ions et particules neutres derrière une couche limite de plasma.
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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