La présente invention porte sur une composition de revêtement photosensible, sur un film conducteur de revêtement utilisant la composition de revêtement photosensible et sur un procédé pour la formation du film conducteur de revêtement.
La composition de revêtement photosensible pour la formation d'un film conducteur de revêtement selon la présente invention contient un nanomatériau conducteur et un matériau photosensible.
En outre, le film conducteur de revêtement formé sur un substrat selon la présente invention est formé à l'aide d'un liquide de revêtement photosensible.
La couche de surface extérieure (17) est de préférence une couche de surface photo-active ou photo-activable, en particulier photocataclytique ou photosensible.
La marque est formée dans un revêtement photosensible qui est appliqué sur le support optique, puis traité par un premier éclairage.
Leur traitement photosensible offre une protection optimale des yeux et les verres sont adaptés aux changements rapides des conditions de luminosité.
La présente invention concerne des compositions de revêtement non photosensibles, comprenant (a) au moins un polymère filmogène hydrosoluble et (b) au moins un agent épaississant de haut poids moléculaire qui présente un comportement thixotrope.
On obtient l'image, mémorisée sous forme numérisée en tant qu'ensemble de données numériques, par commande de l'exposition dudit revêtement photosensible (2) au rayonnement en fonction des données numériques.
Avec une imprimante à laser, reproduisez votre typon sur la feuille transparente, en mode positif ou négatif selon le type de revêtement photosensible de la carte.
Avec une imprimante laser, imprimez le schéma de connexion sur la feuille, en mode positif ou négatif, selon la nature de l’enduit photosensible de la carte.
La présente invention porte sur une composition de revêtement photosensible, sur un film conducteur de revêtement utilisant la composition de revêtement photosensible et sur un procédé pour la formation du film conducteur de revêtement.
La composition de revêtement photosensible pour la formation d'un film conducteur de revêtement selon la présente invention contient un nanomatériau conducteur et un matériau photosensible.
Le réseau photosensible est recouvert d'un revêtement optiquement transparent pour empêcher la contamination du réseau photosensible sur la puce.
Le procédé selon l'invention consiste à revêtir et à sécher une composition photosensible sur un substrat.
L'application, sur un substrat, d'un premier revêtement non photosensible suivant un motif ayant un caractère défini, fait appel à l'utilisation d'un second revêtement photosensible pour définir l'image ou le motif.
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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