Un plasma est généré entre une première électrode (10) et une cible métallique (30) par pulvérisation cathodique de ladite cible, ce plasma contenant des ions de ladite cible.
Ces ions provoquent la pulvérisation cathodique de la cible métallique, permettant un dépôt métallique tridimensionnel de la pièce à travailler.
Une cible métallique (70) est ionisée par plasma dans un réacteur de traitement (24) extractible pour générer des ions métalliques.
L'invention se rapporte également à un appareil et à des structures de grille cibles en métal lourd pour réaliser ce procédé.
Lorsque la cible métallique (42) est en position de collision, le faisceau électronique pulsé (1) entre en collision avec la cible métallique (42) pour générer des rayons x (5) particuliers à partir de la même position (2a) de la source de lumière.
Le système de capteur ETD mesure le temps d'affaiblissement du courant de Foucault dans la cible métallique de manière à effectuer une reconnaissance et une classification de cette cible.
Lors de la formation d'au moins une des couches métalliques d'arrêt, le métal d'arrêt est déposé par pulvérisation sous vide sur une cible métallique d'arrêt qui comporte un dopant semi-conducteur.
Une surface d'émission de la cible métallique d'anode est tournée vers une sortie du canal de focalisation.
Une fenêtre de sortie est disposée sur un trajet de réflexion de faisceau d'électrons de la cible métallique d'anode.
L'ensemble de magnétrons comprend un magnétron plan horizontal avec une cible en métal liquide, un magnétron rotatif cylindrique avec une cible en métal et un jeu d'un ou de plusieurs blindages formant une chambre entre les magnétrons plan et rotatif.
Un plasma est ensuite généré à l'intérieur du contenant de traitement (24), dans lequel une cible métallique (70) est ionisée par le plasma afin de produire des ions métalliques.
L'autre surface de la cible métallique d'anode est reliée à l'anode de l'alimentation électrique.
L'invention concerne un système de capteur d'induction électromagnétique (EMI) orientable permettant de mesurer le tenseur de polarisabilité magnétique d'une cible métallique.
La portée de détection n'est pas affectée par le milieu entre le magnétomètre et la cible métallique.
Cette invention concerne un procédé de dépôt de couches de ZnO ou de couches d’un autre oxyde métallique par pulvérisation cathodique réactive à CC pulsé à partir d’une cible métallique dans un mélange gazeux contenant de l’oxygène.
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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