L'invention concerne des interfaces de masques ayant des cadres de masque et des joints d'étanchéité de masque.
Ce masque peut être un masque d'amplitude ou un masque de phase.
La présente invention concerne un ensemble masque ou une interface pourvue d'un ensemble masque comprenant un joint de masque et une coque de masque soutenant ledit joint de masque.
Le premier masque est un masque déphaseur et le second masque est un masque de structure monophasique.
Ledit masque peut comprendre un ou plusieurs masques parmi un masque à symboles aléatoires, un masque d'amplitude et un masque de phase.
La présente invention concerne un ensemble masque d'imagerie pour la photolithographie qui comprend un masque d'imagerie, une pellicule de silice fondue synthétique protégeant le masque, et un cadre portant le masque et la pellicule.
La présente invention concerne un ensemble masque d'imagerie pour la photolithographie qui comprend un masque d'imagerie, une pellicule de silice fondue synthétique protégeant le masque, et un cadre portant le masque et la pellicule.
La valeur de masquage est utilisée pour générer une commande de masquage d'écriture.
La valeur de masquage est générée et stockée dans un réseau de masquage.
Cette couche de masquage à motifs comprend généralement un premier masque et au moins un masque latéral avoisinant le premier masque.
L'invention concerne un masque cylindrique qui peut être fabriqué à l'aide d'un cylindre de coulée creux et d'un cylindre de masquage.
Le panneau de masquage sert à masquer le code à barres, et offre également une zone d'impression supplémentaire.
Le masque secondaire sert à masquer sélectivement des zones données pour une attaque ultérieure.
Une unité de génération de masque (110) transmet un signal de masque à au moins un initiateur (102) et permet à l'initiateur (102) de masquer le signal de requête.
Un bitmap de masque de démodulation est conçu pour masquer des éléments de ressource pilotes et des éléments de ressource corrompus.
En outre, l'appareil de commande graphique peut utiliser un masque intérieur ou extérieur pour masquer les données.
Le masque opaque est disposé sur un substrat à masquer, de telle sorte que le masque opaque adhère fortement au substrat pour empêcher l'affaissement du masque.
L'invention concerne un assemblage de plaque de masque composite comprenant un corps de masque et un cadre de masque (33).
L'invention concerne également un masque comprenant le corps de masque précédent et des procédés de fabrication dudit corps de masque ou dudit masque.
La connexion entre les joints d'étanchéité de masque et les cadres de masque peut permettre le mouvement des joints d'étanchéité de masque par rapport aux cadres de masque.
L'invention concerne un bitmap de masque de démodulation comprenant des valeurs de masque binaire.
Ce système peut comprendre une base de masque, un élément de fermeture de masque, et une sangle.
Le masque de ventilation (13) est constitué par un cadre de masque (14) et un masque mobile (15).
Pour encore plus de confidentialité, le masque peut comprendre un masque à symboles aléatoires, ainsi qu'un masque d'amplitude et/ou un masque de phase.
L'invention concerne un masque chirurgical destiné à administrer et/ou récupérer des gaz médicaux comprenant un masque nasal et un masque buccal qui enveloppe le masque nasal.
Chaque bit de masque d'opération sur des données en paquets du premier masque correspond à un bit de masque d'opération sur des données en paquets du deuxième masque à une position correspondante.
Ledit masque CPAP comprend un support de masque à l'intérieur duquel se trouve une cavité.
La déformation du masque d'échelle des gris donne un masque transformé.
L'invention concerne un masque, un procédé de production d'un masque, un masque ainsi produit, ainsi que des utilisations avantageuses de celui-ci.
Le premier masque et le second masque sont obtenus en partitionnant la disposition de masque.
Puis, le troisième dessin de masque peut être généré sur la base du deuxième dessin de masque, où le photomasque correspond au troisième dessin de masque.
Le second masque est appliqué tandis que le premier masque est encore présent, ce qui permet ainsi d’amener le second masque à s’auto-aligner avec le premier masque.
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Traduction Translation Traducción Übersetzung Tradução Traduzione Traducere Vertaling Tłumaczenie Mετάφραση Oversættelse Översättning Käännös Aistriúchán Traduzzjoni Prevajanje Vertimas Tõlge Preklad Fordítás Tulkojumi Превод Překlad Prijevod 翻訳 번역 翻译 Перевод