La présente invention concerne un dispositif de formation de gaine d'ions dans un plasma de façon à déposer des revêtements sur un substrat non conducteur (12).
Cette gaine (70) d"articulation flexible est à son tour logée dans une gaine (80) rigide de façon à pouvoir glisser dans cette dernière.
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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