L'invention concerne un ensemble cartouche pour des systèmes d'armes de gros calibre comprenant un ensemble de retenue intégré permettant de maintenir des charges propulsives à l'intérieur de l'étui de cartouche.
En outre, le substrat comprend une seconde ouverture de maintien de circuit intégré, et le circuit intégré est maintenu dans les deux ouvertures considérées.
Un matériau d'encapsulation est placé dans l'ouverture susmentionnée, entourant sensiblement le circuit intégré.
Le circuit intégré se présente en particulier sous la forme d'un agencement de cellules de mémoire vive dynamique présentant un temps de rétention augmenté.
Un circuit intégré (16), sensiblement maintenu dans l'ouverture susmentionnée, est relié opérationnel au matériau conducteur (16).
Le mécanisme de retenue peut être relié à la douille, en formant un ensemble douille intégré, ou le mécanisme de retenue peut être relié de manière amovible à la douille.
Le corps de retenue est verrouillé à un ensemble sous-embase par le biais de doigts de verrouillage ou est intégré à celui-ci.
Des éléments de rétention peuvent être intégrés à l'espaceur afin d'aider l'espaceur à rester en position.
L'ensemble de glissière de guidage de vitre intégré comprend également une partie de réception de vitre co-extrudée avec la partie de retenue.
L'invention concerne une cellule de mémoire comprenant des éléments de retenue asymétriques constitués de transistors à jonctions bipolaires intégrés avec un transistor CMOS.
L'invention concerne un boîtier de circuit intégré comprenant une structure de retenue d'encapsulant placée adjacente à une puce sur un substrat.
L'ensemble de glissière de guidage de vitre intégré comprend une partie de retenue conçue pour être montée sur la partie supérieure.
Les politiques intégrées de conservation de dossiers vous permettent de respecter les règlements gouvernementaux sur le stockage.
La présente invention se rapporte à un appareil permettant de pré-conditionner un dispositif à circuit intégré (CI) d'exploitation dans un état de rétention de faible puissance statique.
Comprendre comment développer une culture d’entreprise pour favoriser la rétention des employés
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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