Pendant son fonctionnement, la zone d'immersion est située entre l'élément d'immersion et le substrat, et est au moins temporairement remplie d'un milieu d'immersion.
Le matériau de couche supérieure selon la présente invention est également utile pour la lithographie par immersion utilisant un liquide organique comme milieu d'immersion.
La présente invention concerne une composition de résist pour une exposition par immersion dans un liquide, qui présente en même temps une excellente résistance à un milieu d’immersion et d’excellentes caractéristiques lithographiques.
Pour que l'objectif (14) soit mieux protégé contre le fluide d'immersion qui pourrait le salir, le dispositif de protection comporte un canal capillaire (30) qui est relié à un dispositif d'aspiration et sert à évacuer le fluide d'immersion.
L'invention concerne un procédé de surveillance d'un système de lithographie par immersion (10) qui consiste à immerger une plaquette (12) dans un milieu d'immersion liquide (24).
Les éléments optiques microfabriqués peuvent être facilement configurés pour une imagerie avec un milieu d'immersion solide.
Un milieu d'immersion externe (48) peut être intercalé entre le verre frontal (38) et l'objet.
Une gouttelette (15) d'un milieu liquide d'immersion pour la lithographie par immersion dans un liquide est disposée sur une surface d'un film organique (13) formé sur un substrat (12).
Un milieu d'immersion conforme (26) peut être placé entre une couche photosensible (34) et la lentille.
Un milieu d'immersion interne (40) est disposé entre l'optique de focalisation (30) et le verre frontal (38).
Selon l'invention, un dispositif d'atténuation thermique est conçu pour réduire les fluctuations se produisant à l'intérieur de la distribution de températures TE de l'élément d'immersion, lesquelles fluctuations étant induites par le milieu d'immersion.
L'invention concerne un système et/ou un procédé permettant de mesurer (250) et/ou de commander (260) l'indice de réfraction (n) et/ou la constante lithographique (k) d'un milieu d'immersion (210) utilisé pour la lithographie par immersion.
La résine photosensible peut ensuite être exposée au motif d'exposition afin que ce motif d'exposition traverse le milieu d'immersion conforme.
Le liquide de nettoyage peut, en outre, contenir un milieu d'immersion (c), un solvant organique hydrosoluble (d) et un solvant hydrocarboné (e).
Un milieu d'immersion mettant en contact les deux composants (1, 3) est situé entre le premier composant optique (1) et le second composant optique (3).
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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