Est également proposé un système de traitement pour implanter un dopant dans l'une des couches d'un empilement de films, cuire l'empilement de films enlevé et enlever l'empilement de films implanté.

Est également proposé un système de traitement permettant d'implanter un dopant dans une couche d'un empilement de films ; de cuire l'empilement de films éliminé et d'éliminer l'empilement de films implanté.

La superposition de couches obtenue présente une amélioration importante de sa durée par rapport à une superposition de couches dépourvues de la couche supérieure décrite par l'invention.

Des bordures, qui peuvent également être maintenues contre l'empilement de pellicules optiques par une force électrostatique, protègent l’empilement de pellicules optiques pour constituer une unité de pellicules optiques.

Le film ou la superposition de films est ensuite stratifié sur le revêtement durci.

La présente invention a pour objet un procédé de formation de motifs d'un empilement de films.

Une pluralité de plots, qui a pour utilité de supporter un substrat, est formée sur la pile de couches minces ou dans des ouvertures de la pile de couches minces.

L'invention concerne un procédé et un système pour préparer une superposition de couches et pour former une caractéristique dans cette superposition de couches au moyen d'une pluralité de procédés de gravure sèche.

En outre, l'accord est réalisé par un mouvement de translation de la superposition de films diélectriques réfléchissants accordant la cavité dans un champ électrostatique régulé.

Dans un autre mode de réalisation, la pile de films fins absorbant la lumière comprend une pluralité de couches de film fin.

La présente invention concerne une pile de films (50) et un procédé de fabrication correspondant.

Cet empilement de films comporte au moins une couche à l'oxynitrure de silicium.

L'invention concerne également un écran à cristaux liquides comprenant cette pile de films optiques et des méthodes permettant d'augmenter le rapport de contraste sur l'axe d'un écran à cristaux liquides utilisant cette pile de films optiques.

L’invention décrit un empilage de films d’afficheur pour un système d’affichage à rétroéclairage.

L'invention porte, dans des modes de réalisation, sur un empilement de films minces contenant une pluralité de piles épitaxiales disposées sur un substrat et sur un procédé pour la formation d'un tel empilement de films minces.