L'optique d'éclairage possède un miroir à facettes de champ (17) et un miroir à facettes de pupille (20).
Les paires de facettes (19, 20) comprenant respectivement une facette du premier miroir à facettes et une facette du second miroir à facettes prédéfinissent une pluralité de canaux d'éclairage pour éclairer la zone objet.
Le ou les miroirs à facettes de pupille (25) comprennent au moins une section de polarisation (29, 30) de miroir à facettes de pupille et au moins une section neutre (34) de miroir à facettes de pupille.
L'invention porte sur un miroir à facettes multiples (26) d'un appareil d'exposition par projection microlithographique, lequel miroir comprend une pluralité d'unités de facettes de miroir.
Au moins un des miroirs à ajuster est un miroir à facettes (17, 25) avec plusieurs ou de multiples facettes de miroir ou groupes de facettes de miroir.
Un second miroir (20) à facettes se trouve en aval dudit premier miroir (19) à facettes sur le trajet de faisceau de la lumière d'éclairage (16).
L'unité optique d'éclairage (32) a en outre un miroir à facettes de champ (20) et un miroir à facettes de pupille (21), chacun ayant une pluralité de facettes (22, 23).
Le miroir à facettes comprend une pluralité de miroirs séparés (21).
La présente invention se rapporte à un dispositif de miroir à facettes qui comprend un élément de facette, un dispositif de support et un dispositif de serrage.
Les réseaux de miroirs (26) du premier miroir à facettes (19) sont placés dans une superstructure de réseaux.
En aval du premier miroir à facettes est disposé un second miroir à facettes comportant une pluralité de secondes facettes (26) servant à guider par réflexion les sous-faisceaux (23).
Un second miroir (20) à facettes de l'unité optique d'éclairage est placé en aval du premier miroir (36) à facettes sur la trajectoire de faisceau de la lumière d'éclairage (16).
Au moins un des éléments à facettes (13a-d ; 14a,c ; 14b,d) du premier miroir à facettes (13) ou du second miroir à facettes (14) est conçu comme un élément optique diffractif destiné à diffracter le rayonnement EUV (4).
Un second miroir à facettes (14) comprend une pluralité de secondes facettes (20).
Un premier miroir à facettes (13) comprend une pluralité de premières facettes (19).
Chaque miroir à facettes réfléchit à son tour le faisceau de la surface réfléchissante du miroir à balayage sensiblement en arrière sur lui-même (autocollimation).
Le miroir à facettes de champ comporte une pluralité de facettes de champ (18) présentant des surfaces de réflexion (22).
Le miroir à facettes de champ (6) comprend une pluralité de facettes de champ (18x) comportant des surfaces de réflexion (22).
L'unité optique d'éclairage possède un premier miroir à facettes possédant une pluralité de miroirs individuels (26).
L'équipement optique suivant comprend un miroir à facettes de pupille (14) qui présente plusieurs facettes de pupille (27).
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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