L'invention évite les altérations de la qualité de revêtement du fait du blocage du dispositif de maintien lors du dépôt de revêtement.

Afin de réguler le bombardement ionique pendant le revêtement, une tension (US), produite indépendamment du plasma de revêtement (20) est appliquée au substrat, ladite tension étant modifiée pendant le revêtement.

Le système coloré résultant évite leur séparation pendant des applications de revêtement.

A l'aide du poids comme variable mesurable dérivée du poids du matériau de revêtement et de la source de revêtement, le processus de revêtement sous vide est régulé par la mesure de la perte de poids lors du revêtement.

La présente invention concerne une poudre de polyvinylacétal qui est excellente en termes de fluidité lors du revêtement lorsqu'elle est utilisée dans un matériau de revêtement en poudre.

Un revêtement de phosphate de calcium se forme sur une surface interne du matériau poreux par agitation de la solution durant la formation du revêtement.

L'invention concerne un appareil de revêtement et un procédé d'utilisation selon lesquels au moins un tube capillaire est en contact avec un substrat mobile pendant le revêtement.

Le procédé de revêtement comprend en outre durant le revêtement, la libération d'au moins certaines régions du substrat qui a été revêtu de l'état d'absorption sous vide.

Pour recouvrir de manière uniforme une surface profilée complexe telle qu'un profil d'aube de turbine, on peut faire tourner l'aube à chaque position d'inclinaison pendant le processus de déposition.

Le porte-stent fixe ainsi solidement le stent et empêche son déplacement dans le sens longitudinal et radial pendant le revêtement et réduit au maximum la distribution inégale du matériau de revêtement sur le stent, qui est induite par le porte-stent.

Les cavités ne devant pas être enduites sont remplies d'un matériau de masquage (15) pendant l'enduction, ce qui évite une enduction des parois des cavités (14).

Lors du revêtement, le fluide de revêtement peut sortir par la buse et est déposé sur le substrat tandis que l’émetteur de vapeur de solvant émet une vapeur de solvant à proximité de l’orifice de buse.

Avec le procédé selon l'invention, la formation de taches dans la pellicule de revêtement est moins fréquente et le dessin obtenu est homogène, même sans un contrôle strict des variations d'épaisseur de pellicule au cours du revêtement.

L'utilisation de cet agent procurant une propriété de glissement permet la réduction de voile lors du procédé de revêtement.

De préférence, ces matières particulaires sont incorporées au revêtement pendant le procédé d'application.