La silice colloïdale comprend des particules de silice modifiées en surface par un aluminate ou est préparée par ajout d'un aluminate à de la silice colloïdale telle que la silice colloïdale classique.
La silice colloïdale à faible alcalinité de l'invention comprend de l'ammoniaque, de la silice colloïdale polydispersée, ou les deux.
De préférence, la silice colloïdale cationique non sphérique est aciculaire ou colonnaire.
De la silice colloïdale ou de la bentonite colloïdale peuvent également être incluses.
L’invention concerne également un nanomatériau fluorescent comprenant les particules de silice colloïdales ; une biopuce utilisant les particules de silice colloïdales ; et une méthode d’analyse utilisant les particules de silice colloïdales.
L'invention propose en outre un procédé de fabrication d'une silice colloïdale, qui permet de contrôler facilement la dimension de particule de la silice contenue dans une silice colloïdale.
Le polymère peut être mélangé avec un support colloïdal tel que de la silice colloïdale.
L'invention concerne également des procédés de fabrication de silice colloïdale aqueuse de l'invention ainsi que des procédés de fabrication de papier utilisant les sols de silice colloïdale.
Les particules de silice colloïdale dans la dispersion de silice colloïdale présentent une dimension moyenne des particules comprise entre environ 2 nm et environ 100 nm.
Ces compositions comprennent des particules de silice colloïdale contenant un agent de modification, par exemple un organosilane, lié de manière covalente aux particules de silice colloÏdale.
La présente invention a trait à une dispersion aqueuse comportant des particules de silice sublimées, des particules de silice colloïdales, et de l'eau.
L'enduit est composé d'un liant et d'une silice colloïdale cationique dispersée.
L'invention concerne un revêtement de silice d'indice faible qui peut être fabriqué en formant un sol de silice qui comprend un silane et/ou une silice colloïdale.
L'invention porte sur un revêtement de silice à faible indice qui peut être obtenu par formation d'un sol de silice comprenant un silane et/ou une silice colloïdale.
L'invention concerne également un procédé de production de cette silice colloïdale.
L'invention concerne une composition de polissage, qui comprend de la silice colloïdale.
La silice colloïdale peut avoir une taille de particule moyenne d’environ 0,5 à environ 10 nanomètres.
Eventuellement, le sol de silice colloïdale dissous dans un solvant miscible dans l'eau peut être soumis à une réaction dans une deuxième étape avec un sol acide de silice colloïdale aqueuse préalablement silanisé avec du trialcoxysilane de monométhyle.
La composition de formation de revêtement comprend un liquide porteur, de la silice colloïdale et/ou de l'alumine colloïdale, et une charge inorganique.
Les compositions comprennent un silane organofonctionnel monomère, et une silice colloïdale présente en une quantité suffisante pour améliorer la résistance à l'abrasion comparée à une composition ne comprenant pas de silice colloïdale.
Une troisième couche comporte de la silice colloïdale, de l'urée, de l'eau et un anti-mousse.
Une silice colloïdale et de l'alumine broyée sont utilisées comme composants abrasifs classiques.
Ce procédé permet de produire de la silice sublimée nanoparticulaire modifiée en surface sans que cela provoque le gel, l'agglomération ou l'agrégation des nanoparticules de silice.
Le ciment peut en outre inclure une silice de taille submicronique, à grains fin, sous forme de silice colloïdale.
L'invention propose un procédé de fabrication d'une silice colloïdale à l'aide de silicium métallique en tant que matière première, qui permet de produire une silice colloïdale ayant une concentration élevée et une faible viscosité.
Le liant est un mélange en suspension aqueuse de polymères à base de silice, de silice colloïdale, et de particules d'oxyde métallique.
Le polymère de dispersion hydrophile renferme i) une silice colloïdale ou ii) un floculant inorganique.
La matrice hydrophobe peut contenir une silice colloïdale hydrophobe à titre de charge hydrophobe.
Cette invention concerne un procédé permettant d'améliorer l'efficacité de la silice colloïdale, le procédé impliquant l'élimination d'une quantité suffisante d'impuretés chargées contenues dans le colloïde pour que le colloïde forme un gel visqueux.
Les grains abrasifs se composent, par exemple, de particules de silice colloïdales et sphériques.
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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