L'invention porte également sur un procédé pour nettoyer des tranches à l'aide de l'eau de nettoyage pour des tranches.
L'invention concerne un dispositif de nettoyage de tranches de semi-conducteur ayant subi un traitement chimiomécanique (CMP).
L'invention concerne un film de nettoyage conçu pour éliminer des corps étrangers et des substances particulaires de surfaces de travail de tranches de nettoyage utilisées dans des processus de semiconducteurs.
L'invention porte également sur un procédé pour nettoyer des tranches à l'aide de l'eau de nettoyage pour des tranches.
La surface de nettoyage de contact à sec s'applique au nettoyage des plaquettes semi-conductrices (40).
L'invention concerne un dispositif servant à nettoyer des plaquettes de semi-conducteurs.
Un déclencheur transfère les plaquettes polies à une station de nettoyage, qui comprend des postes de décrassage, un poste de rinçage et un poste à essoreuse centrifuge, ainsi qu'un système relié de pistes d'eau.
L'invention concerne des procédés et un appareil de nettoyage de surfaces de tranches, notamment pour nettoyer des surfaces de tranches à motifs.
En conséquence, l'invention concerne un procédé de nettoyage des plaquettes de semi-conducteurs, où la détérioration de la rugosité de la surface des plaquettes due au nettoyage est réduite, et les plaquettes peuvent être efficacement nettoyées.
On décrit un appareil et un procédé utiles pour nettoyer et rincer des tranches (210) de silicium.
L'invention concerne des procédés pour nettoyer des tranches semi-conductrices à la suite d'un polissage chimico-mécanique.
L'invention concerne un système de nettoyage de plaquettes en semi-conducteur, qui utilise l'énergie mégasonique pour agiter le fluide nettoyant appliqué sur la plaquette.
Du poste de nettoyage, les tranches sont transportées vers un poste de rinçage.
Le dispositif selon l'invention comporte un support servant à maintenir les plaquettes pendant le nettoyage et comprenant un cadre à partie supérieure ouverte et une pluralité de tiges supports s'étendant entre les extrémités opposées du cadre.
Le poste de nettoyage comprend plusieurs paires de rouleaux entraînant les tranches à travers le poste de nettoyage, permettant ainsi le nettoyage des surfaces planes, supérieure et inférieure, des tranches.
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Traduction Translation Traducción Übersetzung Tradução Traduzione Traducere Vertaling Tłumaczenie Mετάφραση Oversættelse Översättning Käännös Aistriúchán Traduzzjoni Prevajanje Vertimas Tõlge Preklad Fordítás Tulkojumi Превод Překlad Prijevod 翻訳 번역 翻译 Перевод