Chaque petit faisceau de sortie est divisé en un petit faisceau de détection et en un petit faisceau de référence associé.
Le réseau de petits faisceaux comprend une pluralité d'impulsions de petit faisceau.
Une première anode reçoit chaque petit faisceau à l'emplacement prédéterminé, accélère chaque petit faisceau, et modifie le rayon de chaque petit faisceau.
Le module de génération de petits faisceaux génère un réseau de petits faisceaux à partir de l'impulsion laser.
Le système possède un générateur de faisceaux, un éliminateur de faisceaux, et un projecteur de faisceaux.
L'invention se rapporte à un système de lithographie à petit faisceau par multiples petits faisceaux de particules chargées destiné au transfert d'un motif sur la surface d'un substrat.
Le système comprend en outre une matrice d'ouvertures de mini-faisceaux avec une pluralité d'ouvertures de mini-faisceaux disposées en un ou plusieurs groupes.
Une seconde anode reçoit chaque petit faisceau en provenance de la première anode, fait suivre à chaque faisceau un axe prédéterminé, augmente l'accélération, et peut comprimer encore plus chaque petit faisceau.
La matrice d'ouvertures de mini-faisceaux est agencée pour recevoir les sous-faisceaux et former une pluralité de mini-faisceaux à l'emplacement des ouvertures de mini-faisceaux de la matrice de mini-faisceaux.
Cette invention concerne un procédé de détermination d'une position de petit faisceau dans un appareil d'exposition à multiples petits faisceaux de particules chargées.
Le petit faisceau est dirigé par des angles asymétriques prédéterminés.
Enfin, la distance entre le premier petit faisceau et le second petit faisceau est déterminée sur la base du premier signal, du second signal et de la distance prédéfinie.
L'éliminateur de faisceaux est configuré pour mettre les faisceaux en forme.
Les déflecteurs de microfaisceau sont disposés dans la zone d'application de faisceau.
Le système possède une source de particules chargées (1), une grille d'ouverture (4), un manipulateur de faisceau, un éliminateur de faisceau (6), et un réseau de systèmes de lentilles de projection.
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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