La station tampon peut être incorporée dans un dispositif de stockage, tel qu'un dispositif de stockage de tranches vierges.
La station tampon peut être incorporée dans un dispositif de stockage, tel qu'un dispositif de stockage de tranches vierges.
Pendant la fabrication de la cellule, celle-ci est en permanence posée soit sur la tranche massive, soit sur le support de tranche, sans aucun traitement des cellules photovoltaïques minces nues.
Pendant la fabrication de la cellule, celle-ci est en permanence posée soit sur la tranche massive, soit sur le support de tranche, sans aucun traitement des cellules photovoltaïques minces nues.
Selon l'invention, un ensemble de semi-conducteur comprend une tranche de semi-conducteur, un revêtement adhésif disposé sur le côté arrière de la tranche, et une bande de découpage de puce brute, de préférence transparente au rayonnement ultraviolet.
Les ensembles plaquettes comprennent une première plaquette, une seconde plaquette et une troisième plaquette.
Les ensembles plaquettes comprennent une première plaquette, une seconde plaquette et une troisième plaquette.
L'invention a trait à un procédé permettant le cotraitement du retrait d'une puce nue d'une plaquette semi-conductrice, destiné à améliorer la vitesse à laquelle des puces sont retirées d'une plaquette pour être ultérieurement placées sur un substrat.
Un système à platine de tranche actionne une platine de tranche (WST) qui retient une tranche (W) à l'aide d'un support de tranche (25) le long d'une base de tranche (BS).
Durant le traitement des plaquettes, on peut donc déterminer sur un socle de support de plaquettes la présence d'une plaquette, sa position, et son état, c'est-à-dire les dégâts qu'elles a subis.
L'invention concerne un ensemble support de tranche destiné à servir de support à une tranche lors de son polissage électrolytique et/ou de son placage par électrodéposition.
La pile de tranches (100) comprend une première tranche (OW1) appelée tranche optique et une deuxième tranche (SW) appelée tranche d'entretoise.
On attache alors la plaquette de circuits de support à la plaquette de capteurs et l'on sépare la plaquette de manipulation de la plaquette de capteurs.
La présente invention concerne un support de tranche adapté pour supporter une tranche semi-conductrice durant un processus de traitement thermique.
Les ensembles clavettes comprennent une clavette de base et une clavette réutilisable pouvant être couplée de façon ajustable à la clavette de base.
Requêtes fréquentes anglais :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
Requêtes fréquentes français :1-200, -1k, -2k, -3k, -4k, -5k, -7k, -10k, -20k, -40k, -100k, -200k, -500k, -1000k,
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